etch工艺,

综述报告—刻蚀简介
刻蚀工艺技术简易原理图
该工艺从gan中释放ga3,其中正电荷来自gan或电解质阳极界面处紫外线
本发明涉及半导体工艺技术领域,尤其涉及一种改善vcsel侧壁形貌的干法
1,集成电路(ic)光刻工艺