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国产超分辨光刻装备通过验收,可加工22纳米芯片-电子头条-eeworld电子
国产超分辨光刻装备通过验收,可加工22纳米芯片-电子头条-eeworld电子在光学镜头方面,我国中科院研发出了国内首台高能同步辐射光源设备.
在光学镜头方面,我国中科院研发出了国内首台高能同步辐射光源设备.中科院 光刻机,上海微电子 28nm光刻机
中科院 光刻机,上海微电子 28nm光刻机为此,光刻机光源由中科院光电研究院攻关,北京科益虹源负责产业转化
为此,光刻机光源由中科院光电研究院攻关,北京科益虹源负责产业转化中企订购了多台光刻机均来自于asml
中企订购了多台光刻机均来自于asml
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