3纳米光刻机,7纳米光刻机

佳能将面向小型基板发售半导体光刻机fpa3030i5a可制造多种半导体器件
其能实现7纳米以下先进工艺的euv高端光刻机,市场份额100,中高端市场
最终,在asml和台积电的通力合作下,率先将193纳米浸润式光刻机生产
日本佳能上市新型光刻机!
光刻机三巨头的殊途同归