等离子刻蚀,等离子刻蚀机

等离子体刻蚀中边缘离子轨迹的控制与优化
【news【精华】等离子体刻蚀(plasma etch process)
一种均衡刻蚀速率的等离子体处理装置及方法
具体过程如图(b)电子束曝光和氧等离子体刻蚀得到的起始宽度为120nm的
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