光刻正胶,正胶反胶

光刻 光刻是一个整体概念,它包括以下几个过程(以正胶为例): (1) 涂光
华慧高芯知识库电子束光刻中的异常之光刻胶的倾倒
负胶版与光刻胶的关系:光刻版出现的黑区与正胶版相反,透过光的区域
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紫外线曝光灯 均匀胶层(正胶) 表面生长氧化层 硅片截面 图中为光刻班