物理所率先实现基于石墨烯的各向异性刻蚀技术
各向同性刻蚀b.ppt
当带有与 110>方向相准直的掩膜的(100 )面硅片放到 各向异性刻蚀剂中
同性刻蚀
半导体刻蚀工艺基础干法刻蚀
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