光刻曝光,光刻

将设计师绘制好的"电路图"曝光(光刻)在晶圆上 4,先溶解光刻胶,光刻
整个光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干,涂底,旋涂光刻胶,软烘,对准曝光
微光刻与电子束光刻技术(北京大学暑期班讲义版)ppt
正性光刻与负性光刻相反,曝光部分的光刻胶会被破坏从而被溶剂洗掉,该
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