光刻胶剥离液,剥离液

trymax 半导体 光刻机剥离,灰化 清洗 等离子去胶机 neo2000系列
光刻胶
vipr tm全湿法,无灰化光刻胶剥离工艺—zeta r g3系统的应用之一
光致可剥离粘合剂
利用上层叫曝光显影后开出窗口,再使用tmah显影液去显影lor胶胶,获得