光刻胶剥离液,剥离液

trymax半导体光刻机剥离灰化清洗等离子去胶机
可以使用az100作为去胶剂,dmso或其他常见的有机溶剂作为剥离剂
安智az1500az6112az6130az3100光刻胶显影液剥离液现货供应
我们还有多种产品适合剥离(lor)工艺,包括紫外正胶,翻转胶,非化学放大
科研安智az和su-8系列光刻胶及国产替代胶配套显影增粘稀释液 az5214e